1961年毕业于华中工学院金属材料专业，1962-1964武汉大学进修，1982-1984年美国南方大学电气工程系访问学者，1989-1994年美国西北大学合作研究量子阱器件和焦平面成像技术。目前主要研究微光电机系统（MOEMS）、传感器与光电成像技术等，项目主要来自国家高技术与国家攻关项目。在从事CCD的研究中与电子部研究所合作，首次在国内取得成功，后开发成产品；研究红外CCD注入效率取得理论成果，部分内容被国外教材采用，并编入我国出版的《激光与红外技术手册》。已发表被SCI收录的论文60多篇、被国内外文献引用100多次和发明专利10余项，获多项省部级奖励和国内外专利产品金奖各一项。